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普樂斯13年專注等離子清洗機研制低溫等離子表面處理系統方案解決商

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半導體硅

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產品特點

樣品介紹:此樣品是應用于半導體領域,樣品中間有一層晶圓。
 
 
工藝難點:晶圓表面太過光滑不能滿足下段工序的要求,由于晶圓面積太小,用其他方法對表面粗化比較困難。
 
等離子處理目的:用普樂斯真空等離子設備對樣品表面進行處理,利用特殊氣體電離產生的等離子與晶圓表面進行反應,同時利用等離子的物理反應,以達到晶圓表面的粗化。處理前后在顯微鏡下面可以明顯的觀察到粗化的效果。

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產品參數

注:以上參數僅供參考,本公司可能對相關產品參數進行調整,如有變動,恕不再另行通知。若有不明處,歡迎來電詢問。
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工作原理

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應用領域

快速反應,專業配合,精心打造服務生態鏈
1年質保,終身維護,提供配套服務
承諾到達現場的時限:昆山4小時,蘇州8小時,江浙滬24小時,其他區域48小時
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榮譽資質

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